»Ë»Ñ Æ÷·³
ÄÄÇ»ÅÍ¿Í °ü·ÃµÈ °ÍÀ» °øÀ¯ÇÏ´Â °ø°£ÀÔ´Ï´Ù. ºÒ¹ý ¼ÒÇÁÆ®¿þ¾î »ç¿ë¿¡ ´ëÇÑ Á¤º¸ °øÀ¯´Â ±ÝÁöÇÕ´Ï´Ù.

¿ª½Ã³ª ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ÀÌ Á¡ÇÁÇÒ¶§´Â Á¸¹ö°¡ ´ä.

¿¹ÀüºÎÅÍ ±×·¨Áö¸¸ ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ÀÌ È® ¹Ù²ð¶§´Â ¼º´É Çâ»óÀÌ º¸ÀåµÈ°Å³ª ¸¶Âù°¡Áö¿´½À´Ï´Ù.

 

°¡Àå ÃÖ±ÙÀÇ ¿¹¸¸ º¸´õ¶óµµ 28nm °øÁ¤À» »ç¿ëÇÏ´Â 900 ½Ã¸®Áî¿¡¼­ 16nm °øÁ¤À» »ç¿ëÇÏ´Â 1000¹ø´ë·Î ³Ñ¾î°¥¶§ ¾öû³­ ¼º´É Çâ»óÀÌ ÀÖ¾ú½À´Ï´Ù.

 

1060 ÀÌ 980°ú µ¿±ÞÀ¸·Î ³ª¿Ô°í 1070ÀÌ 980TI¸¦ Âï¾î ´­·¶ÁÒ.

 

À̹øÀÇ °æ¿ì´Â TSMC 12FFN( Æ®·»Áö½ºÅÍ ¹Ðµµ 28MTr/§± ) ¿¡¼­ »ó¼º 8nmLPP UHD( 61MTr/§±, Ä¿½ºÅÒÀ̶ó´Ï ´Ù¸¦ ¼ö ÀÖÀ½ )À¸·Î ¹ÝµµÃ¼ Á÷Á¢ ¹Ðµµ°¡ ´ëÃæ µÎ¹èÁ¤µµ µË´Ï´Ù.

 

µ¿ÀÏ ¸éÀû¿¡ ´ëÃæ µÎ¹è Á¤µµ ´õ ¶§·Á ³ÖÀ»¼ö ÀְԵ˴ϴÙ.

 

¾Æ¸¶µµ Â÷±âÀÛÀº 5nm±Þ °øÁ¤À» »ç¿ëÇÒ²¨¶ó°í º¸¿©Áö´Âµ¥ TSMC 5nm °øÁ¤ÀÌ ÀÚ»çÀÇ 7nm ´ëºñ 1.8¹èÀÇ ¹Ðµµ°¡ Áõ°¡ ÇÒ²¨¶ó°í ÇÏ°í TSMC 7FF °øÁ¤ÀÌ ´ë·« 96MTr/§± Á¤µµ·Î »ï¼º 8nm °øÁ¤ÀÇ 1.5¹èÂë µË´Ï´Ù.

 

±×·¯´Ï±î »ï¼º 8nm °øÁ¤¿¡¼­ TSMC 5nm°øÁ¤À¸·Î ³Ñ¾î°¡¸é 2.5¹è°¡ ³Ñ¾î°¡°Ô µË´Ï´Ù.

 

»ï¼º 5nm °í¹Ðµµ°øÁ¤Àº ´ë·« 130MTr/§± °¡ Á¶±Ý ¾ÈµÇ´Â ¼öÁØÀ¸·Î ¿¹»óÀ» ÇÏ´øµ¥ ÀÌÂÊÀ¸·Î ³Ñ¾î°¡°ÔµÇ¸é ¹Ðµµ´Â ´ë·« 2¹è Á¤µµ Áõ°¡ÇÏ°Ô µÇ´Â°ÍÀÌ°í¿ä.

 

¾î´ÀÂÊÀ¸·Î ³Ñ¾î°¡µµ È®½ÇÇÑ ¼º´ÉÇâ»óÀº ÀÖÀ»²¨¶ó´Â°ÅÁÒ.

 

 

 

°¢ÀÚ¸¶´Ù »çÁ¤ÀÌ ´Ù¸£´Ï ¹«Á¶°Ç Á¸¹öÇ϶ó°í ÇÒ¼ö´Â ¾ø±äÇѵ¥ Â÷¼¼´ë Á¦Ç°ÀÇ Ãâ½Ã°¡ ¾ó¸¶ ³²Áö ¾ÊÀº ½ÃÁ¡À̸é ÀÏ´Ü ±â´Ù·Á º¸´Â°Ô ´äÀÌ°í ƯÈ÷³ª °øÁ¤ÀÌ Á¡ÇÁÇÏ´Â ½Ã±â¿¡´Â Áß°í °¡°Ý¿¡ Å« ¿µÇâÀ» ¹ÞÁö ¾ÊÀ» Àû´çÇÑ ¼º´ÉÀÇ ±×·¡ÇÈÄ«µå¸¦ ±¸ÀÔÇؼ­ Á¸¹öÇÏ´Â°Ô ÃÖ¼±¿¡ °¡±õ½À´Ï´Ù.

 

³¡.

0
ÃßõÇϱ⠴ٸ¥ÀÇ°ß 0
ºÏ¸¶Å©¹öÆ° °øÀ¯¹öÆ°
  • ¾Ë¸² ¿å¼³, »óó ÁÙ ¼ö ÀÖ´Â ¾ÇÇÃÀº »ï°¡ÁÖ¼¼¿ä.
©¹æ »çÁø  
¡â ÀÌÀü±Û¡ä ´ÙÀ½±Û